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岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司宣布，已與ThetaMetrisis達成合作協(xié)議，成為其薄膜厚度測量設(shè)備在中國大陸、香港特別行政區(qū)、馬來西亞及菲律賓市場的代理商。這一消息標志著岱美將負責ThetaMetrisis旗下先進膜厚測量解決方案在中...
在SEMICON展會期間，為半導體、微機電系統(tǒng)(MEMS)和納米技術(shù)應(yīng)用提供晶圓處理解決方案的*企業(yè)EVG隆重推出了用于高亮度發(fā)光二極管(HB-LED)批量生產(chǎn)的第二代全自動掩模對準系統(tǒng)。GenII在發(fā)布第一代EVG620HBL的一年后推出，提供一個工具平臺，主要用于滿足HB-LED客戶的特定需求，以及市場對降低總所有權(quán)成本的不斷要求。另外，EVG620HBLGenII還優(yōu)化了晶圓廠的工具足跡——與競爭產(chǎn)品相比，每平方米潔凈室空間的晶圓產(chǎn)出量提高了55%。HBLGenII專為...
橢圓偏振儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學測量設(shè)備。由于并不與樣品接觸，對樣品沒有破壞且不需要真空。可測的材料包括：半導體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬、多層膜物質(zhì)?？梢詰?yīng)用于半導體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等領(lǐng)域。橢圓偏振儀的結(jié)構(gòu)：本產(chǎn)品常用的光學元件有下列幾種：1、光源：橢圓偏振儀的理想光源是強度穩(wěn)定，從紫外到近紅外整個波長范圍內(nèi)輸出近似為常數(shù)，目前大多選用Xe或Hg-Xe燈是比較合理的，但是它在UV強度較弱，而在880~...
等離子去膠和等離子清洗機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具，可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式，也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。等離子去膠機基本工藝流程：1、將圓片從片盒內(nèi)取出，放置到工藝腔內(nèi)，執(zhí)行所選定的工藝文件完成去膠，將圓片放到冷卻臺上(如有需要)，最后將圓片送回片盒。為了獲得更高的產(chǎn)量，可以使用熱絕緣的Teflon片盒，...
折射率測量儀能測出蔗糖溶液的質(zhì)量分數(shù)(錘度Brix)(0-95%，相當于折射率為1.333-1.531)。故此儀器使用范圍甚廣，是石油工業(yè)、油脂工業(yè)、制藥工業(yè)、制漆工業(yè)、日用化學工業(yè)、制糖工業(yè)和地質(zhì)勘察等有關(guān)工廠、學校及有關(guān)科研單位*的常用設(shè)備之一。折射率測量儀的準備工作：1、在開始測定前，必須先用蒸餾水或用標準試樣校對讀數(shù)。如用標準試樣則對折射棱鏡的拋光面加1—2滴溴代萘，再貼上標準試樣的拋光面，當讀數(shù)視場指示于標準試樣上之值時，觀察望遠鏡內(nèi)明暗分界線是否在十字線中間，若有...
1.新聞簡介岱美儀器供應(yīng)商EV集團(EVG)是面向MEMS，納米技術(shù)和半導體市場的晶圓鍵合機和光刻設(shè)備的領(lǐng)仙供應(yīng)商，金天宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的權(quán)面組合產(chǎn)品組合的多個訂單，這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對晶圓的新興需求，水平光學(WLO)和3D感應(yīng)。市場領(lǐng)仙的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進器，用于步進重復式主圖章制造，用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG®40NT自動測量系統(tǒng)，用于對準驗...